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半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組選型，價格，方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通，多案例供參考。
康士捷生產的工業控溫設備有高溫型（5℃～35℃）、中溫型（-5℃～-40℃）、低溫型（-40℃～-80℃）、超低溫型（-150℃～-80℃）、冷熱兩用型（-150℃～+300℃）等系列產品供貴司選用。制冷量大小都有，有防爆型，防腐型，撬裝式，變頻型等。接受非標定做。溫度穩定性±0.1℃等可選。
以下列出部分參數，貴司參數溝通選型后確認。
半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組
典型溫區：
常規蝕刻：-30°C～-60°C（如硅蝕刻、氧化物蝕刻）。
深低溫蝕刻：-60°C～-100°C（如高深寬比結構、低溫等離子體蝕刻）。
核心要求：
溫度穩定性：±0.1°C（避免反應速率波動）。
快速響應：降溫速率≥5°C/min（工藝切換需求）。
潔凈度：無油污染（防止腔體污染）。
適用場景：-40°C～-100°C，中等冷量需求（5～50kW）。
工質組合：
高溫級：R507A/R448A（-40°C蒸發）。
低溫級：R23/R14（-80°C以下需R14或氦氣）。
優勢：連續運行、能效比高（COP＞1.0@-80°C）。
適用場景：超低溫（-150°C以下）、極小冷量（如科研級蝕刻）。
半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組選型與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通。
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